Читать реферат по физике: "МАГНИТНЫЕ МАТЕРИАЛЫ ДЛЯ МИКРОЭЛЕКТРОНИКИ" Страница 2
- 1
- 2
- 3
- 4
- . . .
- последняя »
Характеристическая длина l о имеет размерность длины и связана с толщиной h пластины и диаметром D домена. С точки зрения увеличения плотности размещения информации желательно, чтобы диаметр домена был как можно меньше. Минимально достижимый диаметр домена при заданном материале Amin =3,9* lo имеет место для пластин (пленок) толщиной A = 3,3 l о. В технических устройствах, где используют ЦМД, рекомендуется выбирать h ~4* l 0 , так как при этом способность доменов восстанавливаться после флуктуации наиболее сильно выражена. При h = 4* l 0 поле, соответствующее середине области устойчивых цилиндрических доменов, H =0,28 l 3> а диаметр доменов в этом поле D —8 l 0
Уменьшение размера ЦМД достигается применением материалов с малым l о. Из следует, что увеличение намагниченност и материала способствует этому в большей степени, чем снижение А .
Действительно, снижение фактора качества q ухудшае т условия статической устойчивости ЦМД. Уменьшение обменной константы А' нецелесообразно, поскольку при этом с н и ж ается температурная устойчивость ЦМД. Минимальный размер домена, полученный в настоящее время в аморфных и гексагональных ферромагнетиках, составляет около 0,08 мкм. Температурный диапазон устойчивости ЦМД-структур достаточно широк (—50 + 60° С). Точка Нееля большинства современных ЦМД-материалов лежит в пределах 560—720 К
Важной характеристикой материалов для ЦМД-устройств является коэрцитивная сила Н с , во многом определяющая подвижность доменов. Чем меньше Н е , тем выше быстродействие ЦМД-устройства. Скорость перемещения домена также зависит от подвижности доменной границы u rp . и г р обратно пропорциональна фактору качества q . Поэтому материалы, обладающие большими значениями q , не отвечают требованиям высокого быстродействия ЦМД-устройств
ЦМД могут быть получены во многих магнитных материалах, обладающих сильной одноосной анизотропией
Ортоферриты RFeO 3 — первые материалы, на которых были изучены ЦМД. В настоящее время эти материалы в промышленных ЦМД-устройствах практически не применяются, поскольку диаметр ЦМД ортоферритов порядка 80—100 мкм не позволяет обеспечить высокую плотность записи информации. Однако в ряде случаев ор-тоферриты, обладающие высокими магнитооптическими параметрами, сохранили свои позиции. Их применяют в виде пластинок, вырезанных определенным образом из монокристалла и доведенных посредством механической полировки до нужной толщины
Монокристаллы ортоферритов получают обычными способами (см. § 2.20). Одним из наиболее перспективных считают выращивание монокристаллов из расплава с применением бестигельной зонной плавки и радиационного нагрева. Этот метод включает изготовление исходных для выращивания монокристаллов поликристаллических заготовок в виде цилиндрических стержней методами керамической технологии. Процесс кристаллизации осуществляется следующим образом. Из предварительно полученного любым методом монокристалла вырезают вдоль определенного кристаллографического направления затравку, которую закрепляют на керамическом или сапфировом держателе. По оси затравки с высокой точностью устанавливают исходный поликристаллический стержень. Камера герметизируется, продувается и подключается к системе давления кислорода. Затравку и
- 1
- 2
- 3
- 4
- . . .
- последняя »
Похожие работы
| Тема: Магнитные материалы для микроэлектроники |
| Предмет/Тип: Физика (Реферат) |
| Тема: Магнитные материалы для микроэлектроники |
| Предмет/Тип: Физика (Реферат) |
| Тема: Основные материалы микроэлектроники, применяемые в процессе ее развития |
| Предмет/Тип: Информатика, ВТ, телекоммуникации (Реферат) |
| Тема: Основные материалы микроэлектроники, применяемые в процессе ее развития |
| Предмет/Тип: Информатика, ВТ, телекоммуникации (Реферат) |
| Тема: Получение сверхчистых материалов для микроэлектроники |
| Предмет/Тип: Физика (Доклад) |
Интересная статья: Основы написания курсовой работы

(Назад)
(Cкачать работу)