- 1
- 2
- 3
- . . .
- последняя »
Министерство образования Российской Федерации Орловский Государственный Технический Университет Кафедра физики
КУРСОВАЯ РАБОТАна тему: «Расчет параметров ступенчатогоp-n перехода» Дисциплина: «Физические основы микроэлектроники» Выполнил студент группы 3–4Сенаторов Д.Г.
Руководитель:
Оценка:
Орел. 2000Орловский Государственный Технический Университет
Кафедра: «Физика»ЗАДАНИЕ НА курсовую работу
Студент: Сенаторов Д.Г. группа 3–4Тема: «Расчет параметров ступенчатого p-n перехода»
Задание: Рассчитать контактную разность потенциалов k в p-n-переходе.
Исходные данные для расчета приведены в таблице №1.
Таблица 1. Исходные данные. Наименование параметра | Единицы измерения. | Условное обозначение | Значение в единицах системы СИ |
Абсолютная величина результирующей примеси в эмиттере | м-3 | NЭ | 1,51025 |
Абсолютная величина результирующей примеси в базе | м-3 | NБ | 1,81022 |
Диэлектрическая постоянная воздуха | Ф/м | 0 | 8,8510-12 |
Заряд электрона | Кл | e | 1,610-19 |
Относительная диэлектрическая проницаемость полупроводника | Ф/м | 16 | |
Постоянная Больцмана | Дж/К | k | 1,3810-23 |
Равновесная концентрация дырок в n-области | м-3 | pn0 | 1010 |
Равновесная концентрация дырок в p-области | м-3 | np0 | 1,1109 |
Собственная концентрация носителей заряда | м-3 | ni | 51014 |
Температура окружающей среды | K | T | 290 |
ОГЛАВЛЕНИЕ.
ВВЕДЕНИЕ4.ЧАСТЬ I. ТЕОРЕТИЧЕСКАЯ ЧАСТЬ6.
1.1 Понятие о p-n переходе6.
1.2 Структура p-n перехода10.
1.3 Методы создания p-n переходов15.
1.3.1 Точечные переходы15.
1.3.2 Сплавные переходы16.
1.3.3 Диффузионные переходы17.
1.3.4 Эпитаксиальные переходы18.
1.4 Энергетическая диаграмма p-n перехода в равновесном
состоянии20.
1.5 Токи через p-n переход в равновесном состоянии23.
1.6 Методика расчета параметров p-n перехода26.
1.7 Расчет параметров ступенчатого p-n перехода29.
ЧАСТЬ II. Расчет контактной разности потенциалов k в p-n-переходе 31.
ЗАКЛЮЧЕНИЕ32.
ПРИЛОЖЕНИЕ33.
СПИСОК ИСПОЛЬЗОВАННОЙ ЛИТЕРАТУРЫ35. ВВЕДЕНИЕ. Полупроводники могут находиться в контакте с металлами и некоторыми другими материалами. Наибольший интерес представляет контакт полупроводника с полупроводником. Этот интерес вызван следующими двумя обстоятельствами. В случае контакта метал–полупроводник выпрямляющими свойствами контакта можно управлять с помощью только одной из половин контакта, а именно, со стороны полупроводника. Это видно хотя бы из того факта, что весь запирающий (или антизапирающий1) слой лежит в полупроводниковой области и его толщину, а значит, и ток можно регулировать концентрацией носителей n0, т.е. выбором типа кристалла, легированием полупроводника, температурой, освещением и т.д. Второе обстоятельство заключается в том, что практически поверхности металла и полупроводника никогда не образуют идеального контакта
- 1
- 2
- 3
- . . .
- последняя »
Похожие работы
Тема: Расчет параметров ступенчатого p-n перехода |
Предмет/Тип: Электротехника (Реферат) |
Тема: Расчет параметров ступенчатого p-n перехода zip 860 kb |
Предмет/Тип: Информатика, ВТ, телекоммуникации (Реферат) |
Тема: Определение параметров p-n перехода |
Предмет/Тип: Физика (Курсовая работа (п)) |
Тема: Определение параметров p-n перехода |
Предмет/Тип: Радиоэлектроника (Реферат) |
Тема: Определение параметров p-n перехода |
Предмет/Тип: Электротехника (Реферат) |
Интересная статья: Быстрое написание курсовой работы