- 1
- 2
Пояснительная записка к курсовому проекту
по дисциплине «Интегральные устройства радиоэлектроники»
Малошумящий интегральный усилитель
Исходные данные источника сигнала:
Выходное сопротивление 90 Ом Амплитуда 3 мкВ Исходные данные усилителя: Коэффициент усиления > 20 дБ Полоса рабочих частот 1-5 ГГц Сопротивление нагрузки 90 Ом Питание однополярное +9 В Условия эксплуатации: Температура среды 27 ºС Влажность относительная 96 % при 27 ºССодержание
Введение
. Анализ технического задания
. Проектирование малошумящего полевого транзистора с затвором Шоттки
.1 Определение толщины обедненной области
.2 Определение значения порогового напряжения перекрытия канала
.3 Определение геометрических размеров полевого транзистора Шоттки
. Функциональное проектирование усилителя
.1 Получение схемы электрической принципиальной
.2 Исследование влияния сопротивления нагрузки на коэффициент шума и другие характеристики ПТШ
. Разработка конструкции и топологии кристалла
.1 Расчет геометрических размеров конденсаторов
.2 Расчет геометрических размеров резисторов
.3 Разработка топологии кристалла
. Разработка технологии изготовления кристалла
.1 Технологическая очистка поверхности кристалла
.2 Формирование резисторов и транзисторов в n и n+ слоях
.3 Создание резисторов и нижних обкладок конденсатора
.4 Создание слоя диэлектрика Та2O5 в конденсаторах
.5 Напыление SiO2
.6 Создание верхних обкладок конденсаторов
.7 Создание окон для затворов и омических контактов
.8 Создание затворов
.9 Создание омических контактов
.10 Создание проводящих дорожек и контактных площадок
.11 Соединение стоков
.12 Создание защитного слоя диэлектрика
Заключение
Литература
Введение
малошумящий интегральный усилитель транзистор
Цель данного курсового проекта - приобретение навыков в проектировании ИМС на примере малошумящего интегрального усилителя.
Проектирование полупроводниковых интегральных микросхем (ИМС) является сложным и многоэтапным процессом. Проектирование включает в себя синтез и анализ схемы, оценку экономической обоснованности степени интеграции, расчет элементов, разработку топологии, выбор оптимального технологического процесса, расчет технико-экономических показателей производства. Методы проектирования полупроводниковых ИМС тесно связаны с технологией их изготовления. Совершенствование технологических процессов позволяет повысить степень интеграции, что неизбежно приводит к изменению методов проектирования.
Процесс проектирования полупроводниковых ИМС включает следующие основные этапы:
) Составление технических требований
) Выбор физической структуры
) Разработка принципиальной электрической схемы
) Разработка конструкции и топологии
) Разработка технологического процесса изготовления
) Оформление документации 1. Анализ технического задания В результате выполнения курсового проекта должны быть разработаны конструкция, топология и технологический процесс изготовления бескорпусной интегральной микросхемы на арсениде галлия. ИМС представляет собой малошумящий
- 1
- 2
Похожие работы
Интересная статья: Основы написания курсовой работы